RC-CU200 无氰碱性镀铜
工艺特点：
CU200是我公司引进国外技术，新研制开发的新一代无氰镀铜新工艺，其特点如下：
2 很适用于钢铁件、黄铜件、铝合金、锌合金工件作底层电镀，结合力强
2 镀液稳定可靠，寿命长
2 镀液活性强，阴极极化电位大，镀层可加厚，光亮度高，无脆性
2 废水处理容易，只需加沉淀剂就可以除去有机物，可达标排放
溶液组成及操作条件：
原材料及操作条件
挂镀
滚镀
纯水
500毫升/升
560毫升/升
RC-CU200A
400 毫升/升
350毫升/升
RC-CU200B
100毫升/升
90毫升/升
RC-CU200C
1-5毫升/升
1-5毫升/升
pH值
9.5(9.0-10)
9.5(9.0-10)
温度
50(40-60) ℃
50(40-60) ℃
Dk(A·dm-2)
1(0.5-1.5)
0.6(0.1-0.9)
SA:SK
1.5:1
1.5:1
阳极
轧制高纯铜板
轧制高纯铜板
时间
2－5分钟
20－30分钟
搅拌
阴极移动或空气搅拌(视情况)
阴极移动或空气搅拌(视情况)
过滤
连续过滤
连续过滤
镀液配制(挂镀，以100L为例)
2 镀槽中加入约40L去离子水，加人200B光亮剂10L，搅拌。
2 缓慢加入200C调整剂约0.3L溶液。
2 加人40L 200A溶液(内含铜900g)，搅拌，加去离子水达工作体积，搅拌均匀。
2 继续用200C调整剂调pH值，控制溶液pH值9.5。
2 加热至工作温度，试镀。
镀液的控制与维护
2 200A电镀浓缩液为基础基质提供铜。在电镀过程中，沉积的铜由阳极侵蚀补充。带出的复杂药剂由添加200B补充。一般只在新配槽或镀液功能竭尽时才能添加200A。镀液中铜含量，挂镀一般维持在8~10g/L，滚镀维持在6~8g/L。在生产过程中由于镀液的带出损耗和电极过程的损失，可根据化学分析进行补充，每缺少铜lg/L，可补充200A44mL/L。（A400，B100）
2 200B补充液中含复杂药剂，它的添加可作为带出的补充和因电化学作用而消耗的量，过少将会引起结合力下降，轻微过量将不会引起不好影响。200B补充液中含有较强酸性物质，所以添加小心，且加入前需要用200C调整剂(3-4):1配合使用。200B的消耗量约为150~200mL/KAH，也可根据霍尔槽试验添加。
2 镀液的pH值应控制在9.0~10，不可低于9，以免影响镀层结合力，升高pH值用碳酸钾，降低pH值用2 |
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