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国内供应电子级反式-1,2-二氯乙烯/DCE/TRANS-LC 国内供应电子级反式-1,2-二氯乙烯/DCE/TRANS-LC_深圳市旺达康科技有限公司_国内供应电子级反式-1,2-二氯乙烯/DCE/TRANS-LC

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公 司: 深圳市旺达康科技有限公司
发布时间:2021年11月02日
有 效 期:2022年05月01日
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公 司:深圳市旺达康科技有限公司

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详细说明

    电子级反式-1,2-二氯乙烯/DCE/TRANS-LC(DCE)
名称 反式-1,2-二氯乙烯/DCE/ TRANS-LC
化学式 C2H2Cl2
相对分子量 96.94
CAS号 156-60-5
理化性质 无色略带刺激气味液体,熔点-57℃,沸点48℃,密度1.265g/ml。易燃,其蒸气与空气可形成爆炸性混合物。与氧化剂能发生强烈反应。与酸碱需隔离存放。
主要用途:
高纯度氯源,主要用于晶圆制造过程中加快硅片氧化和清洗炉管。是半导体、分立器件、微机电系统(MEMS)、光伏制造业所需的电子化学品。
产品标准:
项目Item 标准值Standard Value 项目Item 标准值Standard Value
纯 度 99.999995%(7.5N) 锰(Mn)max 0.1ppb
CVD/ALD (Chemical Vapr Deposition /Atomic Layer Depostion )化学气相沉积材料
Dielectrics PMD/IMD TEOS ,TEPO,TMPO,TEB,TMB
Low K Dielectrics 4MS ,OMCATS
High K Dielectrics TAETO (Ta2O5 Precursor )
TEMAZ (ALD ZrO2 Precursor)
TMA (Al2O3 Precursor)
Metal Gate and Interconnect Metal TDMAT (TiN Precursor )
TiCl4 ( Ti /TiN Precursor )
Low-Temp Nitride/Oxide HCDS
Diffusion POCl3

供应半導體化學氣相沉積材料,專業研發及製造各種先進 CVD/ALD (Chemical Vapr Deposition /Atomic Layer Depostion )化學氣相沉積材料。
CVD Precursor(化学气相沉积材料)
TDMAT / InCl3/TEOS/TMB/T


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