铜靶
化学符号：Cu
原 子 量：63.546
外观纯铜：紫红色金属
熔 点：1083.4℃
沸 点：2567℃
密 度：8.92g/cm3
蒸 发 源（丝、片）：钨、钽、钼、铌
坩 埚：Mo、C、Al2O3
在10-4Torr蒸发温度：1017℃
薄膜的机械和化学性质：膜层附着不好，利用中间层Cr可增加附着力；
应 用：保护膜，反射膜，增透膜
靶材形状：板材，圆片，矩形，方形，圆环，圆管，台阶圆片，台阶矩形，其他规格根据客户要求定做. 提供规格的铜靶托、钼靶托、铝靶托、钛靶托；提供金属靶材,合金靶材,陶瓷靶材的背面金属化服务；提供金属靶材,合金靶材,陶瓷靶材与靶托的绑定服务。
本公司长期供应4N高纯铜靶，5N高纯铜靶，6N高纯铜靶高纯铜，高纯铜靶材，高纯铜丝，高纯铜粒，高纯铜柱，高纯铜板，铜锭，铜带，铜箔，铜粉，铜型材，纯度4N-6N，平面靶材，磁控溅射旋转靶材。本公司拥有国内外先进的技术设备，和高端的技术人员，通过真空熔炼，熔融铸造，粉末冶金，热压，冷（热）等静压等技术，专业研发制造高纯度靶材，我们的靶材纯度高，致密度高，放气量小，晶粒细，成膜质量好，价格优惠，欢迎新老客户至电咨询！
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