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公 司: 北京华林伟业电镀器材有限公司
发布时间:2014年11月25日
有 效 期:2015年05月27日
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公 司:北京华林伟业电镀器材有限公司

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详细说明

    半导体显影清洗机  1.概述:本设备可用于半导体工艺中对2″~8″硅片进行显影和定影,该产品技术先进、一致性强,适用于规模生产。    2.整台设备材料均为进口。    3.本设备为双排槽构成,每排7槽,各设一套机械手,两排可独立同时完成相应的工序。    4.本设备除装片和取片需人工外,其余工艺动作均可自动完成。    5.每槽装片能力:50片/批(2花篮,25片/花篮)。    6.工作区洁净度:100级。    7.槽间工艺转换时间:Tm ax≤3.5S


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