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(1)XRD 分析结果表明，膜层主要以TiN、CrN 及Cr2N 形式存在。各
衍射峰存在一定的宽化和偏移，这主要是Cr 取代部分TiN 晶格中的Ti造成晶格畸变所致;TiN 相的择优取向面由(111)向(220) 转变，CrN 和Cr2N 相的择优取向分别为(200)、(220)和(113)晶面;
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2）显微硬度测试结果表明，样品薄膜的硬度较TiN 单层膜有所下降，主要是因为薄膜沉积过程中熔融的液钛或液铬附着在薄膜表面，在薄膜表面形成大颗粒以及多弧离子自身存在缺陷微孔洞的形成，使得薄膜表面结构疏松，硬度值相对较低
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(3)结合力测试结果显示，样品薄膜的结合力在38 N 到44 N 之间。偏压相同，阴极弧电流依次增大，结合力也增大。阴极弧电流相同，偏压增高，结合力变大。 |
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